路易斯G布鲁伽罗拉斯1,2，安东尼霍姆斯科贝拉1,2还有约瑟夫·萨米蒂尔1,2,3
一纳米生物工程组，加泰罗尼亚生物工程研究所（IBEC）巴塞罗那西班牙二Investigaci_n Centro de Investigaci_n Bioma_dica en Red de Bioingenier_a，生物材料Y纳米医药（Ciber-BBN）Zaragoza西班牙。
三电子系，巴塞罗那大学（UB）玛特·弗兰克斯，1，巴塞罗那08028，西班牙。
为什么这个有用？
目前，正常的光刻技术构成了二值图像传输方法，其中显影图案由具有或不具有光刻胶的区域组成，这取决于在曝光过程中紫外线是否与样品接触。 一复杂的三维图形结构在流体器件的小型化中越来越重要。 二在下面的工作中，我们介绍了一种基于光致抗蚀剂的技术，用于生产实验室芯片应用的三维渐变微结构。
我们提出了一种新的技术，该技术可用于在SU-8或任何其他负性光致抗蚀剂中使用单一光致变色步骤形成多级特征。从而以一种简单而廉价的方式最小化制造过程中的各个阶段。因此，该方法允许使用普通光掩模而无需添加互补灰度图案，实现复杂的微通道结构。
我需要什么？
- 照相制版过程中常用的物品和设备（掩模对准器，热板，化学浴，负光刻胶和透明基板）
- 阶跃可变金属中性密度过滤器（Thorlabs，股份有限公司。，NJ美国）
我该怎么办？
- 如图1所示，用SU-8光刻胶将样品置于掩模对准器的底部。这将迫使紫外线穿过透明基板，并首先使与基板接触的光刻胶区域聚合。
- 将光罩放置在校准仪标准位置，垂直于光束。
- 选择过滤器（连续，步骤，等）根据您的需要（参见图2中的示例）。
- 将滤光片置于光罩和紫外线光源之间的位置，滤波器的设计与光罩接触（见图3）。
- 输入正确的紫外线曝光时间；因为另一个元素将被添加到紫外光轨迹中，必须调整该值（最终结果如图4所示）。
图1：在掩模对准器中处理su-8光刻胶以实现浮雕结构的方案。
图2：Thorlabs提供的矩形阶跃滤波器示例，股份有限公司。
图3：放置在光罩和紫外线光源之间的阶跃滤波器。
图4：使用SU-8建造的三维斜坡结构示例。用轮廓仪获得浮雕特征。白线表示在显影过程后获得的结构（角度值为30度）。显示从0微米到12微米的坡度（在这种情况下，使用矩形阶跃滤波器）。红线显示了如果在光罩和紫外线光源之间没有滤光片的话，它会是什么样的轮廓。
我还应该知道什么？
和任何负性光刻胶一样，传统工艺中的灰阶曝光会导致表面硬化，如果在显影过程中未连接基板，则移除基板，在通常用于创建悬臂结构的方法中。这就是为什么它很重要，当试图建立救济结构时，转动样品并将其从玻璃基板侧曝光，使SU-8或任何其他负光刻胶留在底部。
致谢
我们感谢David Izquierdo和Juan Pablo Agusil提供的技术帮助和材料。
参考文献
〔1〕S.D.薄荷。微流体技术：综述和协议。美国胡马纳出版社，二千零六.国际标准书号：1064-3745。
〔2〕C陈d.Hirdesa.Folch。使用微流控光掩模的灰度光刻。PNAS，二千零三.DOI：10.1073
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