在表面上制造纳米图案或纳米结构通常局限于仪器的精度和分辨率。光刻技术在制造纳米结构方面很成功，但属性仅限于所选遮罩的尺寸。在电流中软物质 文章，一个合作研究小组为传统的光刻技术增加了一个额外的步骤，以生产更复杂的微观和纳米结构。利用光刻技术在基底上形成纳米“预图案”；交联聚苯乙烯（PS）聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或将端羟基聚合物（PS-PMMA-OH）在硅片表面形成纳米线。在沉积图案后，第二层嵌段共聚物，PS乙-聚甲基丙烯酸甲酯，在整个预处理图案上进行旋涂。最后，样品在一个密封容器中用一小瓶丙酮孵育，以退火PS层。-乙-PMMA。嵌段共聚物的溶剂退火产生PS的有序纳米结构-乙-预制光刻图案顶部的PMMA。PS-乙-PMMA的结构和尺寸随退火时间的变化而变化，但由于最初的化学预图案而保持有序。但对聚合物结构没有任何顺序。
溶剂退火纳米图案化聚合物
嵌段共聚物纳米结构的组装机理由两个因素控制：薄膜厚度和PMMA聚合物链在丙酮蒸汽中更稳定时从底部到表面顶部的迁移。溶剂退火和化学预图案化的结合扰乱了聚合物链的构型能。界面能促进纳米结构的形成聚合物的微结构域是在溶剂化过程中形成的，丙酮去除后保留下来通过化学预图案化和溶剂退火控制纳米图形尺寸扩大了传统光刻技术的应用范围。这种吸引人的制造工艺可用于半导体工业，其中复杂的纳米图案用于数据存储或电子。
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溶剂蒸气诱导的非本体嵌段共聚物在纳米图案化基体上的定向自组装
雷万， 盛祥基， 刘赤春， 戈登SW克雷格和保罗F尼赖
博士。摩根M斯坦顿目前是斯图加特马克斯普朗克智能系统研究所的博士后研究员。德国。她完成了博士学位。201新利手机客户端4年毕业于伍斯特理工学院化学专业。阅读更多关于摩根研究出版物的信息
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